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铜靶材

铜靶材

  • 所属分类:铜靶材
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  • 发布时间:2022-01-18 14:59:41
  • ·J9九游会·产品概述

铜靶材是真空镀膜行业溅射靶材中的种,是高纯铜材料经过系列加工后的·J9九游会·产品,具有定的尺寸和形状高纯铜材料。由于高纯铜别是超高纯铜具有许多优良的性,目前已广泛应用于电子、通信、超导、航天等域。

铜靶材物理性质

铜靶材用途

适用于直流二溅射、三溅射、四溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等,可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等,相对其它靶材,铜靶材的价格较低,所以铜靶材是在能满足膜层的功能前提下的靶材料。

铜靶材分类

铜靶材有平面铜靶材和旋转铜靶材之分。

平面铜靶材是片状的,有圆形、方形等。

旋转铜靶材是管状的,利用率高,但不易加工,要通过高纯铜挤压、拉伸、校直、热处理,机加工等多种加工工序才能终制得铜旋转靶材成品。


铜靶材的概况

铜靶材的生产方法

1、铜的生产和提纯:炼铜的原料是铜矿石。铜矿石可分为三类

⑴硫化矿如黄铜矿(CuFeS₂)斑铜矿(Cu5FeS₄)和辉铜矿(Cu₂S)等。

⑵氧化矿如赤铜矿(Cu₂O)孔雀石[Cu₂(OH)₂CO₃]硅孔雀石(CuSiO₃·2H₂O)等。

⑶自然铜铜矿石中铜的含量在1%左右(0.5%~3%)的便有开采价值,因为采用浮选法可以把矿石中部分脉石等杂质除去,而得到含铜量较高(8%~35%)的精矿砂。经过提取后得到粗铜,再通过多次电解、区域熔炼等方法将铜从99.95%提纯到99.99%、99.999%、99.9999%,目前内纯度在99.9999%(6N)左右。

2、有了高纯度铜锭作为原材料,对原材料进行锻造、轧制、热处理等,使铜锭内晶粒变细小、致密度增加以满足溅射所需铜靶材的要求。

3、对变形处理后的高纯度铜材料进行机械加工,铜靶材加工要求精度高、表面质量高,加工成真空镀膜机所需的靶材尺寸就可以了,铜靶材与镀膜机多以螺纹相连接。

铜靶材展望

随着电子行业的飞速发展,对铜靶材的要求也在步步增加,铜靶材的纯度和市场规范化、·J9九游会·产品标准化还有待相关技术人员的共同努力!


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